山东碳峰TF1010电子级单壁碳纳米管,管径1.5–1.7nm、长度>100μm,单壁纯度≥98.5%,三档超低金属灰分可选,适配碳基晶体管、军工航天、高纯度硅碳负极,支持高纯试样、中试批量供货,全套检测认证。




TF1010 是山东碳峰采用超生长 CVD 耦合多级高温深度纯化、催化杂质定向脱除工艺制备的电子级超高纯单壁碳纳米管粉体,为全系单壁产品线最高纯度型号,和 TF1000 基础型单壁形成清晰梯度区分。管径精准控制 1.5–1.7nm 窄分布区间,原生碳管长度>100μm,拉曼 G/D 比值>50,管壁无定形碳缺陷极低;核心核心差异化指标:单壁碳管有效纯度≥98.5%,大幅高于 TF1000 的 80% 纯度,金属灰分梯度管控至百 ppm 级以内,催化剂残留杂质大幅削减,从根源规避半导体器件漏电、电池副反应、传感信号漂移问题。
单层石墨烯无缝管状结构兼具弹道电子传导、超高弹性、超大比表面积(500–1000 m²/g),渗流添加量低至 0.03% 即可形成全域导电网络,适配 7nm 及以下先进制程薄膜晶体管、柔性逻辑电路、高纯度硅碳负极、军工航天轻量化屏蔽、超高灵敏微量生物传感等高精尖严苛场景。
厂区配套高分辨 TEM、拉曼光谱、TGA 热重、ICP-OES 全套高纯材料专用检测设备,每批次出具单壁含量、金属杂质、管径长度全套专项检测报告;仅面向科研院所、半导体企业、固态电池头部厂商提供克级高纯试样与公斤级中试批量;可定制氨基、羧基高纯改性粉体适配水 / 有机溶剂分散;全套 RoHS、REACH、高纯 ICP 杂质专项报告、MSDS 安全说明书齐全,满足军工、半导体进出口材料严苛准入审核标准。
测试项目 | 检测规格 | 检测方法 | |
通用 检测
| 外观 | 黑色 | 目视 |
管径 | 1.5-1.7nm | SEM、TEM检测 | |
管长 | >100μm | ||
单壁碳纳米管纯度 | ≥98.5% | TGA | |
灰分 | ≤2000<500<100ppm | 灰份法 | |
比表面积 | 500-1000 | 静态氮吸附仪 | |
GD比 | >50 | Raman | |
包装:防水复合袋,吨包,可定制。
单壁纯度≥98.5%,杂质杂管含量极低,适配半导体器件开关比要求
对比 TF1000 单壁纯度仅 80%,TF1010 通过多级纯化剔除多壁碳管、无定形碳颗粒,杂相杂质占比不足 1.5%;用于薄膜场效应晶体管时,器件开关比提升 10 倍以上,无金属杂管造成的漏电、信号失真,适配 7nm 以下先进碳基集成电路研发。
三档超低金属灰分可选,彻底解决微量金属离子迁移失效难题
提供<100ppm/<500ppm/<2000ppm 三档灰分规格,军工、半导体芯片可选用 100ppm 以内超纯档;杜绝催化剂金属残留在器件通电过程中析出,避免晶圆短路、固态电池持续副反应、传感器基线漂移。
1.5–1.7nm 窄管径分布 +>100μm 超长原生管,极低填充不遮挡透光性
万级超高长径比,导电添加量低至 0.03%,同等导电效果填料用量比 TF1000 再降低 30%;管径远小于可见光波长,制备透明导电薄膜无灰雾、高透光,适配折叠屏、光伏透明电极量产。
超高结晶度 G/D>50,管壁结构缺陷极少,电化学循环稳定性拉满
低缺陷石墨烯管壁减少电解液界面副反应,用于硅碳负极、固态电池可大幅抑制 SEI 膜持续增厚,电芯循环寿命较 TF1000 基础单壁提升 35% 以上,适配长续航高端乘用车动力电池。
可定向分离半导体型单壁碳管,低功耗柔性芯片核心基材
高纯度原生单壁原料便于后续密度梯度离心分离,可产出高占比半导体型单壁碳纳米管,载流子迁移率高、器件功耗极低,是下一代柔性低功耗逻辑电路、微型传感芯片核心原料。
超大比表面积 500–1000m²/g,微量分子超高灵敏捕获
海量电化学活性位点,气体、生物蛋白、微量重金属分子吸附识别能力远超 TF1000,适配医疗诊断生物传感器、环境痕量污染物精密检测探头。
军工航天全合规高纯体系,轻量化导电导热一体化结构补强
低杂质无析出配方满足航空航天、军工电子元器件验收标准,极低填充即可实现永久导电、电磁屏蔽、结构增强三重效果,大幅降低卫星、飞行器构件自重。
7nm 及以下制程集成电路、柔性逻辑芯片、微型低功耗传感电路;超高单壁纯度保障晶体管高开关比、低漏电,替代传统硅基材料用于后摩尔时代微纳电子研发。
卫星轻量化电磁屏蔽外壳、飞行器散热导电一体化板材、军工储能器件电极;低金属杂质满足军工元器件长期在轨稳定运行标准。
高端消费电子、长续航乘用车动力电池硅碳负极专用导电添加剂;超低杂质抑制电芯自放电,超长碳管缓冲硅颗粒体积膨胀,大幅延长循环寿命。
替代稀缺 ITO 铟锡氧化物,制备无灰雾高透光导电膜,适配折叠触控屏、可穿戴医疗心电电极、光伏电池透明集流体,千次弯折电阻衰减低于 3%。
医疗蛋白检测传感器、大气痕量有毒气体探测、水体微量重金属监测探头;超大比表面积实现 ppb 级微量分子识别,检测灵敏度优于 TF1000 基础单壁。
半导体单壁手性分离、先进碳基芯片机理、固态电池长循环机理、航天轻量化复合材料等高精尖实验室研发专用高纯试样。
A:TF1000 单壁纯度仅≥80%,适合硅碳负极、普通柔性导电膜、常规实验室基础研发;TF1010 单壁纯度≥98.5%,金属灰分最低可至 100ppm 以内,杂管、无定形碳杂质极少,专门面向半导体集成电路、军工航天、超高精度生物传感、高端固态电池等对杂质零容忍场景;追求器件高稳定性、低漏电、长循环必须选用 TF1010。
A:<100ppm(军工 / 半导体芯片最高档)、<500ppm(高端固态电池、医疗传感器)、<2000ppm(高端硅碳负极、商用柔性屏),可根据下游产品杂质准入标准自由选型。
A:TF1000 因含大量多壁杂管,晶体管开关比仅 10³–10⁴;TF1010 杂相杂质极少,分离后半导体碳管器件开关比可达 10⁷以上,满足先进制程芯片性能要求。
A:TF1010 金属催化杂质大幅削减,固态电芯常温存储 30 天容量衰减降低 40%,循环寿命提升 35%,适配车企长续航固态电池中试量产。
A:可定制氨基高纯改性 TF1010 粉体,适配光刻专用低杂质有机溶剂分散,无微量金属析出污染晶圆;我司可配套低剪切高纯分散工艺方案。
A:每批次配套独立 ICP-OES 高纯灰分检测单,精准标注各类催化剂金属残留含量,全套 RoHS、REACH、MSDS 文件齐全,满足军工、半导体进出口材料第三方审核。
A:薄膜透光率≥90%,雾度<1%,远优于 TF1000 基础单壁,无杂管造成的膜面发灰、透光不均问题,适配高端折叠显示面板量产。